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表达嵌合抗原受体的基因修饰T细胞的制备方法
专利权人:
国立大学法人名古屋大学;国立大学法人信州大学
发明人:
西尾信博,中沢洋三,田中美幸,盛田大介,高桥义行
申请号:
CN201680058705.6
公开号:
CN108138171A
申请日:
2016.10.07
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
苗堃`金世煜
摘要:
本发明实现利用转座子法的CAR疗法的基因导入效率的提高。本发明提供一种表达嵌合抗原受体的基因修饰T细胞的制备方法,包括以下的步骤:(1)准备非增殖性细胞的步骤,所述非增殖性细胞是通过在利用抗CD3抗体和抗CD28抗体对含有T细胞的细胞群进行刺激后,进行使增殖能力丧失的处理而得到的;(2)通过转座子法得到导入有靶抗原特异性嵌合抗原受体基因的基因修饰T细胞的步骤;(3)将步骤(1)中准备的非增殖性细胞和步骤(2)中得到的基因修饰T细胞混合,在利用抗CD3抗体和抗CD28抗体进行刺激的同时进行共培养的步骤;(4)回收培养后的细胞的步骤。另外,本发明提供一种表达嵌合抗原受体的基因修饰T细胞的制备方法,包括以下的步骤:(i)准备保持有病毒肽抗原的非增殖性细胞的步骤,所述保持有病毒肽抗原的非增殖性细胞是通过在利用抗CD3抗体和抗CD28抗体对含有T细胞
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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