光学断层成像装置
- 专利权人:
- 佳能株式会社
- 发明人:
- 武藤健二,北村健史
- 申请号：
- CN201010237383.6
- 公开号：
- CN101986185B
- 申请日:
- 2010.07.23
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种成像装置及成像方法。提供一种包括用于粗略成像的低分辨率模式和用于获得详细图像的高分辨率模式的光学断层成像装置。特别地，提供使得能够以较高的速度执行高分辨率模式中的断层成像的光学断层成像装置。根据本发明的成像装置基于组合来自被测量光束照射的对象的返回光束和与测量光束对应的参考光束的组合光束捕获光学干涉断层图像。根据本发明的成像装置还包括用于改变测量光束的光束直径的光束直径改变单元。并且，根据本发明的成像装置包括被配置为以与光束直径对应的分辨率检测组合光束的检测单元。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
