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COSMETIC PREPARATION
专利权人:
라이온 가부시키가이샤
发明人:
호소카와 미노루
申请号:
KR1020107024517
公开号:
KR1016596350000B1
申请日:
2009.03.04
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
(A) an amphoteric surfactant or an anionic surfactant, and (B) 70 to 95 mol% of a monomer unit represented by the following formula (1) and 5 to 30 mol% of a monomer unit represented by the following formula (2) (A) / (B) in an amount of 0.1 to 50.0, based on the total weight of the cosmetic composition. (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a -CH 2 OH group, A represents an oxygen atom or -NH-, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, M represents a hydrogen atom, an alkali metal An atom, an ammonium or an amine)(A) 양성 계면활성제 또는 아니온성 계면활성제, 및 (B) 하기 일반식 (1)로 표시되는 단량체 단위 70 내지 95몰%와, 하기 일반식 (2)로 표시되는 단량체 단위 5 내지 30몰%를, 구성 단위로서 포함하는 아크릴산계 폴리머를 함유하고, (A)/(B)로 표시되는 질량비가 0.1 내지 50.0인 것을 특징으로 하는 화장료. (식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기, R2은 수소 원자 또는 -CH2OH기, A는 산소 원자 또는 -NH-, R3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, M은 수소 원자, 알칼리 금속 원자, 암모늄 또는 아민을 나타낸다)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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