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用于相位对比成像的光栅
- 专利权人:
- 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 发明人:
- G·福格特米尔
- 申请号:
- CN201180053589.6
- 公开号:
- CN103200874B
- 申请日:
- 2011.11.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明涉及用于X射线微分相位对比成像的箔光栅、用于生成对象的相位对比图像的探测器装备和X射线成像系统、以及制作箔光栅的方法。为了提供具有高纵横比的光栅,提供了一种用于X射线微分相位对比成像的箔光栅(40),所述箔光栅(40)具有X射线吸收材料的第一箔(42);以及X射线吸收材料的至少第二箔(44)。至少两个所述箔每个都包括由X射线透明缝隙彼此间隔的多个X射线吸收条带,其中,所述第一箔包括具有第一宽度w1(50)的第一多个(46)第一条带(48),以及以第一间距p1(58)周期性布置的具有第一开口宽度wO1(56)的第一多个(52)第一缝隙(54),并且其中,所述第二箔包括具有第二宽度w2(64)的第二多个(60)第二条带(62),以及以第二间距p2(72)周期性布置的具有第二开口宽度wO2(70)的第二多个(66)第二缝隙(68)。至少两个所述箔被布置为彼此移位,从而使所述第二条带定位于所述第一缝隙前方,从而为X射线辐射的通路提供了多个(74)形成的狭缝(76),所述多个(74)形成的狭缝(76)具有形成的狭缝宽度WR(78),所述形成的狭缝宽度WR(78)小于所述第一开口宽度wO1和所述第二开口宽度wO2。至少两个所述箔固定地附接于彼此。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/