ZACHODNIOPOMORSKI UNIWERSYTET TECHNOLOGICZNY W SZCZECINIE
发明人:
PAULINA BEDNARCZYK,BEDNARCZYK PAULINA,ZBIGNIEW CZECH,CZECH ZBIGNIEW,AGNIESZKA WRÓBLEWSKA,WRÓBLEWSKA AGNIESZKA,MARIUSZ WŁADYSŁAW MALKO,MALKO MARIUSZ WŁADYSŁAW
申请号：
PL412409
公开号：
PL227304B1
申请日:
2015.05.21
申请国别(地区):
PL
年份:
2017
代理人:
摘要：
antifungal nail varnish containing base polymer and an antifungal measure is characterized by the fact that the measure constitutes a eugenol in antifungal quantities from 0.1 to 5% by weight in relation to the weight of the base polymer, and the base polymer is fotoreaktywny lacquer design a rocket build new york based from 60 to 85% by weight uretanoakrylanu, from 5 to 30% by weight akrylanowego multifunctional monomer.from 0.5 to 10% by weight of a photoinitiator, at what percentage of all components of the base polymer is 100%.Przeciwgrzybiczny lakier do paznokci, zawierający bazę polimerową i środek przeciwgrzybiczny charakteryzuje się tym, że środek przeciwgrzybiczny stanowi eugenol w ilości od 0,1 do 5% wagowych w odniesieniu do masy bazy polimerowej, zaś bazę polimerową stanowi fotoreaktywny lakier zbudowany na bazie od 60 do 85% wagowych uretanoakrylanu, od 5 do 30% wagowych wielofunkcyjnego monomeru akrylanowego, od 0,5 do 10% wagowych fotoinicjatora, przy czym udział procentowy wszystkich składników bazy polimerowej wynosi 100%.
