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아토피 피부염의 치료용 조성물
专利权人:
HO SAN ENGINEERING & CONSTRUCTION CO.; LTD.
发明人:
CHEON, MAN SIKKR,천만식
申请号:
KR1020150166727
公开号:
KR1020170061805A
申请日:
2015.11.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition for treating atopic dermatitis, and specifically, to a composition for treating atopic dermatitis, which comprises a centella asiatica extract, neomycin sulfate, and salicylic acid as active ingredients. As a result, it is possible to ameliorate itching (pruritus) of atopic dermatitis, to have a sterilization effect in the affected part, to promote skin regeneration in the affected part, to inhibit or eliminate activity of factors (abnormal expression of proteins) which cause atopic dermatitis, thereby effectively improving and treating the symptoms of atopic dermatitis (pruritus, skin disease).COPYRIGHT KIPO 2017본 발명은 아토피 피부염의 치료용 조성물에 관한 것으로서, 센텔라 아시아티카 추출물(Centella asiatica Extract), 네오마이신 황산염(Neomycin sulfate), 살리실릭 애시드(Salicylic acid)를 유효성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는 아토피 피부염의 치료용 조성물을 기술적 특징으로 한다. 이에 의해 아토피 피부염의 가려움증(소양증)을 개선하고, 환부 내의 살균 및 멸균 효과가 있으며, 환부의 피부재생을 촉진하며, 아토피 발병 원인이 되는 인자들(단백질들의 이상 발현)의 환부 내 활성 억제 또는 제거하는 효과가 있어 아토피 피부염의 증상(소양증, 피부질환)을 효과적으로 개선 및 치료할 수 있는 이점이 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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