Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vermessung einer Zahnsituation (1) umfassend mehrere Implantate (2, 3, 4, 5) und/oder Präparationen zum Einsetzen von Zahnrestaurationen. Unter Verwendung eines ersten Messverfahrens wird zunächst ein erster Bereich (13) der Zahnsituation (1) erfasst, wobei erste Messdaten erzeugt werden. Der erste Bereich (13) ist so gewählt, dass er mindestens zwei Implantate (2, 3, 4, 5) und/oder Präparationen umfasst. Anschließend werden Objektbereiche (17, 18, 19, 20) um die Implantate (2, 3, 4, 5) und/oder die Präparationen festgelegt, wobei unter Verwendung eines zweiten Messverfahrens die festgelegten Objektbereiche (17, 18, 19, 20) erfasst werden und zweite Messdaten erzeugt werden. Das zweite Messverfahren ist dabei präziser als das erste Messverfahren.The invention relates to a method for measurement of a dental situation (1) comprising a plurality of implants (2, 3, 4, 5) and / or preparations for the insertion of dental restorations. With the use of a first measurement procedure, initially a first region (13) of the dental situation (1) is detected, wherein first measurement data are generated. The first region (13) is selected such that it at least two implants (2, 3, 4, 5) and / or preparations comprises. Subsequently, the object (17, 18, 19, 20) around the implants (2, 3, 4, 5) and / or the preparations is fixed, wherein with the use of a second measuring method, the fixed object (17, 18, 19, 20) can be detected and second measurement data are generated. The second measurement method is in this case more precise than the first measurement method.
