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SYSTÈME, PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR PERMETTANT DE COMMANDER UNE SOURCE DE LUMIÈRE LASER D'UN DISPOSITIF DE LITHOTRIPSIE
专利权人:
GYRUS ACMI; INC. D.B.A. OLYMPUS SURGICAL TECHNOLOGIES AMERICA
发明人:
TALBOT, Brian M.,SHELTON, Kurt G.,MCLOUGHLIN, Anne G.,CHIDA, Masayasu
申请号:
USUS2019/017391
公开号:
WO2019/157406A1
申请日:
2019.02.09
申请国别(地区):
US
年份:
2019
代理人:
摘要:
A controller: performing one or more iterations of a first process, the first process including: selecting at least one variable operating parameter of a laser light source of a lithotripsy device; determining a value of each of a plurality of base settings of the at least one variable operating parameter selected; and performing, in order, for the each of the plurality of base settings: setting the at least one variable operating parameter selected to the value of the each of the plurality of base settings; and controlling the laser light source to output laser light based on the value of the each of the plurality of base settings set; selecting one of the plurality of base settings; and performing one or more iterations of a second process, the second process including controlling the laser light source based on the one of the plurality of base settings selected.La présente invention concerne un dispositif de commande destiné : à effectuer une ou plusieurs itérations d'un premier processus, le premier processus comprenant les étapes suivantes : la sélection d'au moins un paramètre de fonctionnement variable d'une source de lumière laser d'un dispositif de lithotripsie ; la détermination d'une valeur de chaque réglage de base d'une pluralité de réglages de base du ou des paramètres de fonctionnement variables sélectionnés ; et la mise en œuvre, dans l'ordre, pour chaque réglage de base de la pluralité de réglages de base : du réglage du ou des paramètres de fonctionnement variables sélectionnés sur la valeur de chaque réglage de base de la pluralité de réglages de base ; et de la commande de la source de lumière laser de manière à émettre une lumière laser sur la base de la valeur réglée de chaque réglage de base de la pluralité de réglages de base ; à sélectionner un réglage de base parmi la pluralité de réglages de base ; et à réaliser une ou plusieurs itérations d'un second processus, le second processus comprenant la commande de la source de lumière laser sur l
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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