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Apparatus and method for measuring plant growth conditions
专利权人:
ロックウール;ロックウール インターナショナル アー/エス;インターナショナル;アー/エス
发明人:
デ グルート, ヤコブ フランク,デ グルート, ヤコブ フランク
申请号:
JP2015556515
公开号:
JP2016513246A
申请日:
2014.02.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
An apparatus (10) and method for measuring plant growth conditions in a substrate are provided. A plurality of probes having a linear first array (16) and a second array (18) are used, and a plurality of measured values of the characteristics of the substrate can be obtained. By using a plurality of measured values at different heights in the substrate and combining these measured values, the plant growth conditions can be accurately derived. [Selection] Figure 1基材内の植物生育条件を測定するための装置(10)及び方法が提供される。直線状の第1配列(16)及び第2配列(18)をなす複数のプローブが用いられ、基材の特性の複数の測定値を得ることが可能となる。基材内の異なる高さにおける複数の測定値を用い、これらの複数の測定値を組合せることにより、植物生育条件を正確に導出することが可能となる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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