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PROCÉDÉ DE VALIDATION POUR ÉQUIPEMENT DE STÉRILISATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS
专利权人:
日立造船株式会社;HITACHI ZOSEN CORPORATION
发明人:
NODA Takeshi,野田武史
申请号:
JPJP2019/035921
公开号:
WO2020/090247A1
申请日:
2019.09.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Provided is a validation method for electron beam sterilization equipment provided with: a holding device which holds a preform body (P) from the inside; and an electron beam emission nozzle (4) through which an electron beam (E) is emitted to the inner surface of the preform body (P), after being held in this holding device. The validation method includes a verification electron beam emission step in which an electron beam (E) is emitted from the electron beam emission nozzle (4) so that a dose (i8) of the electron beam (E) emitted to a verification part (f8) other than a part having a holding history from the inside is equal to or smaller than doses (i1-i7) of electron beams emitted to parts (f1 - f7) other than the verification part, on the inner surface of a verification preform body (P) having the same shape as the perform body (P). Furthermore, the validation method includes a verification step for verifying whether the dose (i8) of the electron beam emitted to the verification part (f8) exceeds a criterion for sterilization.La présente invention concerne un procédé de validation pour un équipement de stérilisation par faisceau d'électrons comprenant : un dispositif de maintien qui maintient un corps de préforme (P) à partir de l'intérieur; et une buse d'émission de faisceau d'électrons (4) à travers laquelle un faisceau d'électrons (E) est émis vers la surface interne du corps de préforme (P) après avoir été maintenu dans ce dispositif de maintien. Le procédé de validation comprend une étape d'émission de faisceau d'électrons de vérification dans laquelle un faisceau d'électrons (E) est émis à partir de la buse d'émission de faisceau d'électrons (4) de sorte qu'une dose (i8) du faisceau d'électrons (E) émise vers une partie de vérification (f8) autre qu'une partie présentant un historique de maintien à partir de l'intérieur est égale ou inférieure à des doses (i1-i7) de faisceaux d'électrons émis vers des parties (f1-f7) autres que la partie de vérification,
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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