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毛髪化粧料
专利权人:
花王株式会社
发明人:
早間 美由紀,野尻 昌良
申请号:
JP2010021077
公开号:
JP5700751B2
申请日:
2010.02.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hair cosmetic more improving hair-modifying effect than conventional ones, and further satisfying the good alignment of hair flow at hair tip ends, requested by recent users.SOLUTION: This hair cosmetic includes the components (A) to (C) and has pH 2 to 5 (in dilution by 20 folds mass at 25°C), (A): 0.1 to 5% malic acid or its salt, (B): 0.01 to 5% benzyloxyethanol or benzyl alcohol, and (C): 0.01 to 5% glycylglycine derivative having 2 or 3 number of amino acid residues and expressed by formula (1) [wherein, X is a 1-4C divalent hydrocarbon group which may be substituted by OH, or an amino acid residue Y is an amino acid residue or a divalent group expressed by aminoethylsulfonyl R is H or a 1-4C monovalent hydrocarbon group which may be substituted by hydroxy (m) and (n) are each 0 or 1, but in the case that both are 1 at the same time, X is not the amino acid residue] or its salts.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】毛髪改質効果を従来より一層向上させ、更には近年のユーザーが求める毛先の毛流れの揃いの良さを満足させる毛髪化粧料の提供。【解決手段】成分(A)~(C)を含有し、pH(20質量倍希釈、25℃)が2~5である毛髪化粧料。(A):リンゴ酸又はその塩0.1~5%(B):ベンジルオキシエタノール又はベンジルアルコール0.01~5%(C):アミノ酸残基数が2又は3の、式(1)で表されるグリシルグリシン誘導体又はその塩0.01~5%〔XはOHが置換していてもよいC1-4の二価の炭化水素基又はアミノ酸残基。Yはアミノ酸残基又はアミノエチルスルホニル基で表される二価の基。Rは水素原子又は水酸基が置換していてもよいC1-4の一価の炭化水素基。m及びnは0又は1を示すが、両者が同時に1である場合、Xはアミノ酸残基ではない。〕【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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