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用于组织治疗的孔隙率可控的装置、使用方法和制造方法
专利权人:
W.L.戈尔及同仁股份有限公司
发明人:
C·V·坎贝尔,M·J·弗内什,J·E·班奇诺,B·M·特拉普,E·H·库利
申请号:
CN202110067798.1
公开号:
CN112915365A
申请日:
2012.10.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
在各种实施例中,提供了一种包括气囊的装置,该气囊构造成响应于在第一压力下引入流体而扩张到扩张状态,其中,流体在第二压力以上灌注通过气囊,第二压力等于或大于第一压力。在各种实施例中,一种包括制造气囊的方法,该气囊构造成响应于在第一压力下引入流体而扩张到扩张状态,其中流体在第二压力以上时灌注通过气囊,第二压力等于或大于第一压力,将气囊设置在具有内腔的细长构件上,使内腔置于与气囊的内部体积流体连通。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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