The present invention provides spinous process implant and associated methods. In one aspect of the invention the implant limits the maximum spacing between the spinous processes. In another aspect of the invention, a spacer has at least one transverse opening to facilitate tissue in-growth. In another aspect of the invention, an implant includes a spacer and separate extensions engageable with the spacer. In another aspect of the invention, instrumentation for inserting the implant is provided. In other aspects of the invention, methods for treating spine disease are provided.본 발명은 극돌기 임플란트 및 이와 연관된 방법을 제공한다. 본 발명의 일 양태에서, 임플란트는 극돌기들 사이의 최대 간격을 제한한다. 본 발명의 또 다른 양태에서, 이격기는 조직 내성장을 돕기 위한 하나 이상의 가로방향 개구를 갖는다. 본 발명의 또 다른 양태에서, 임플란트는 이격기와 계합될 수 있는 개별적인 신장부 및 이격기를 포함한다. 본 발명의 또 다른 양태에서, 임플란트를 삽입하기 위한 기구가 제공된다. 본 발명의 또 다른 양태에서, 척주 질병을 치료하기 위한 방법이 제공된다.
