用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置
- 专利权人:
- 上海交通大学
- 发明人:
- 陶海华,张双喜,蒋为桥,王庆康
- 申请号：
- CN201220605307.0
- 公开号：
- CN203002359U
- 申请日:
- 2012.11.15
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开了一种用于化学气相和紫外光化学干法表面清洗改性的真空装置，主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成，真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成：外腔室顶端固定紫外灯光源；内腔室具有高度可调节的样品台，其外置加热和水冷系统。本实用新型能够准确控制紫外光化学和化学气相干法反应的过程，实现材料和器件的有效清洗和改性，它在材料和纳米光电子器件领域具有重要的应用价值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
