The present disclosure is directed to a cleaning composition. The composition contains a quaternary ammonium compound in a concentration sufficient to have antimicrobial efficacy. In order to reduce the formation of streaks and / or films during use of the cleaning composition, the composition further contains a residue reducing surfactant. In one embodiment, the residue reducing surfactant comprises a betaine surfactant.a presente divulgação é dirigida a uma composição de limpeza. a composição contém um composto de amônio quaternário numa concentração suficiente para ter eficácia antimicrobiana. de modo a reduzir a formação de riscas e / ou películas durante a utilização da composição de limpeza, a composição contém ainda um agente tensoativo redutor de resíduos. numa modalidade, o surfactante redutor de resíduos compreende um surfactante de betaína.
