您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

フェイスマスク
专利权人:
東レ株式会社
发明人:
中原 誠,大森 平,梶山 宏史
申请号:
JP2017519717
公开号:
JPWO2017122625A1
申请日:
2017.01.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
The objective of the present invention is to provide a face mask which exhibits excellent adhesion and lift-up properties. The present invention provides a face mask which comprises a laminate of a nonwoven fabric layer A and a nonwoven fabric layer B, and wherein: the nonwoven fabric layer A contains nanofibers having a number average monofilament diameter of from 50 nm to 800 nm (inclusive) in an amount of 40% by mass or more relative to the whole nonwoven fabric layer A and the nonwoven fabric layer B contains polyester fibers having a number average monofilament diameter of from 3 μm to 100 μm (inclusive) in an amount of 90% by mass or more relative to the whole nonwoven fabric layer B.La présente invention concerne un masque facial qui possède une excellente adhérence et dexcellentes propriétés de remodelage. La présente invention porte en particulier sur un masque facial qui comprend un stratifié dune couche de tissu non tissé A et dune couche de tissu non tissé B. La couche de tissu non tissé A contient des nanofibres qui possèdent un diamètre moyen de monofilament compris entre 50 et 800 nm dans une quantité de 40 % en masse ou plus par rapport à la totalité de la couche de tissu non tissé A et la couche de tissu non tissé B renferme des fibres polyester possédant un diamètre moyen de monofilament compris entre 3 μm et 100 μm dans une quantité de 90 % en masse ou plus par rapport à la totalité de la couche de tissu non tissé B.本発明は、密着性とリフトアップ性に優れたフェイスマスクを提供することを課題とする。そして、本発明は、不織布層Aと不織布層Bとの積層体を有し、前記不織布層Aは、数平均による単繊維直径が50nm以上、800nm以下のナノファイバーを前記不織布層A全体に対し40質量%以上含有し、前記不織布層Bは、数平均による単繊維直径が3μm以上、100μm以下のポリエステル繊維を前記不織布層B全体に対し90質量%以上含有する、フェイスマスク。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充