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一种释放负离子的自清洁透水砖及其制备方法
- 专利权人:
- 马鞍山市广立方彩砖有限公司
- 发明人:
- 侯广青
- 申请号：
- CN201610773875.4
- 公开号：
- CN106396488A
- 申请日:
- 2016.08.31
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 刘跃
- 摘要：
- 本发明公开了一种释放负离子的自清洁透水砖及其制备方法，其特征在于，是由以下重量份的原料制成的:电气石2‑4，二氧化钛3‑6，秸秆1‑3，乙醇10‑20，银氨溶液4‑8，乙酸乙酯25‑35，活性炭8‑14，聚丙烯酸酯3‑5，聚酰胺2‑3，废弃织物3‑5，风积沙20‑30，聚四氟乙烯乳液30‑40，环氧树脂GCC135 10‑15，固化剂GCC137 10‑15；在二氧化钛表面均匀负载银粒子，再由活性炭负载二氧化钛，可以达到活性炭吸附二氧化硫等物质，银离子激活促进二氧化钛催化，二氧化钛将其分解这一系列的连续彻底自清洁效果；添加的电气石所释放的负离子能够将有毒有害物质分解为无毒无害的物质或小分子物质。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
