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ドネペジル含有経皮吸収製剤
专利权人:
久光製薬株式会社
发明人:
間 和之助,道中 康也,新 健治,高田 恭憲
申请号:
JP2012512893
公开号:
JP5665861B2
申请日:
2011.04.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
As a manufacturing method, and, donepezil-containing transdermal and transdermal preparations skin irritation is low, contains one or more drugs that are selected from acceptable salts thereof and pharmaceutically donepezil has a sufficient skin permeation rate of donepezil and an object thereof is to provide a method for reducing the skin irritation of absorbable preparation. One or more drugs that are selected from acceptable salts thereof and pharmaceutically donepezil, and contains a skin irritation reducing agent, one embodiment of the present invention is a transdermal preparation.皮膚刺激が少なく、ドネペジルの十分な皮膚透過速度を有するドネペジル及びその薬学的に許容される塩から選択される1以上の薬物を含有する経皮吸収製剤及びその製造方法、並びに、ドネペジル含有経皮吸収製剤の皮膚刺激を低減する方法を提供することを目的とする。本発明の一実施形態は、ドネペジル及びその薬学的に許容される塩から選択される1以上の薬物、並びに皮膚刺激低減剤を含有する、経皮吸収製剤である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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