The present invention is enhanced by applying an anodic oxide deposition technology ability improved osseointegration of dental implant fixture for its object to provide a dental implant fixture . The present invention provides a dental implant fixture comprising the Ca-P precipitates and Ti oxide precipitates formed in the entire surface formed in the base and the base to step Ti oxide and Ca-P.본 발명은 석출강화형 양극산화 기술을 적용하여 치과용 임플란트 고정체의 골유착능이 향상된 치과용 임플란트 픽스쳐를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 Ca-P와 Ti 산화물계로 형성된 기지 및 기지 표면 전체에 형성되는 Ca-P 석출물 및 Ti 산화물 석출물을 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 픽스쳐를 제공한다.
