[Problem] To provide a gas purification apparatus that uses effective catalysis by an oxidation semiconductor to enable the effective degradation and elimination of toxic substances such as VOCs. [Solution] The present invention is provided with a purification processing unit (20) that processes by degradation a gas to be processed and a heat exchange unit (10) for exchanging the post-purification gas that is exhausted from the purification processing unit (20) and the gas to be processed which is sent to the purification processing unit (20). The purification processing unit (20) is provided, inside a processing container constituting a processing space for the gas to be processed, with a catalyzer (31) that supports an oxidation semiconductor on a base material comprised of a porous material and with heating units (32, 24). An edge of the catalyzer (31) is affixed to a support member (34) disposed on the wall of the processing container (22) and is constructed such that the gas to be processed cannot pass through or leak from the connecting portion between the support member (34) and the catalyzer (31).La présente invention vise à fournir un appareil de purification de gaz qui utilise une catalyse efficace par un semi-conducteur doxydation pour permettre la dégradation et élimination efficace de substances toxiques telles que les composés organiques volatiles (VOC). A cet effet, la présente invention comporte une unité de traitement de purification (20) qui traite par une dégradation un gaz à traiter et une unité déchange de chaleur (10) pour échanger le gaz après purification qui séchappe de lunité de traitement de purification (20) et le gaz à traiter qui est envoyé à lunité de traitement de purification (20). Lunité de traitement de purification (20) comporte, à lintérieur dun contenant de traitement constituant un espace de traitement pour le gaz à traiter, un catalyseur (31) qui supporte un semi-conducteur doxydation sur une matière de base constituée dune ma
