治疗计划系统

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专利权人:

住友重机械工业株式会社

发明人:

上口长昭

申请号：

CN201910971902.2

公开号：

CN111084935A

申请日:

2019.14.10

申请国别(地区):

CN

年份:

2020

代理人:

摘要：

本发明的目的在于提供一种能够缩短带电粒子束的照射时间的治疗计划系统。治疗计划系统(200)的运算部(110)在根据表示在肿瘤(14)的各照射部位中所需的剂量的映射图(参考图7)而切除了去除剂量值以下的剂量的基础上,设定运算剂量分布时的带电粒子束(B)的电流值。该情况下,运算部(110)能够以比去除剂量值高的剂量(图7的“A1”)为基准来设定电流值。由此,通过用较高电流值的带电粒子束进行扫描,能够缩短整体的照射时间。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/