PAO MIN CHANGTW,파오-민 창,CHIN HAO CHANGTW,친-하오 창,YUNG CHIN CHANGTW,융-친 창
申请号：
KR1020140149815
公开号：
KR1020150083416A
申请日:
2014.10.31
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要：
Provided in the present invention is a gel polish composition characterized by containing no irritating reactive (meth)acrylate monomer, such as hydroxyethylmethacrylate (HEMA) and ethyl methacrylate (EMA). In the present invention, the gel polish composition comprises at least an aliphatic urethane acrylate oligomer, a polyester acrylate oligomer, a low-irritating acrylate monomer, and a photoinitiator. The gel polish composition possesses low or no irritating effects to skin, exhibits excellent adhesiveness to nails, and is stable in long-term storage at ordinary shelf conditions.COPYRIGHT KIPO 2015본 발명은 히드록시에틸메타크릴레이트(HEMA) 및 에틸 메타크릴레이트(EMA)와 같은 자극성의 반응성 (메트)아크릴레이트 단량체를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 젤 폴리쉬 조성물을 제공한다. 본 발명에서, 상기 젤 폴리쉬 조성물은 적어도 지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 폴리에스테르 아크릴레이트 올리고머, 저 자극성 아크릴레이트 단량체, 및 광개시제를 포함한다. 상기 젤 폴리쉬 조성물은 피부에 대한 자극이 적거나 없고, 손톱에 대한 탁월한 접착성을 나타내며, 통상의 저장 조건에서 장기간 저장에 안정하다.
