光处理装置及光处理方法
- 专利权人:
- 优志旺电机株式会社
- 发明人:
- 今村笃史,后藤一浩,藤次英树
- 申请号：
- CN201811124879.5
- 公开号：
- CN110947020A
- 申请日:
- 2018.26.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 一种光处理装置及光处理方法,实现比过去在杀菌除臭能力上更优的光处理装置,具备:机壳;进气口,将含氧的被处理气体导入所述机壳内;准分子灯,配置于机壳内包括封入了含Xe的放电用气体的石英玻璃制成的管体,并射出主发光波长为172nm的第一光和在波长250nm以上560nm以下的波长范围的至少一部分显示强度的第二光;排气口,将通过对向机壳内导入的被处理气体照射从准分子灯射出的第一光而生成的含臭氧的处理后气体放出;及光催化剂,配置于从准分子灯射出的第二光能够入射的位置,含有能够由第二光激发的材料。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
