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地奈德涂膜剂及其制备方法
专利权人:
重庆华邦制药有限公司
发明人:
蒋海龙,陈李平,管璐晗,陈博,赵静
申请号:
CN201510535052.3
公开号:
CN106474093A
申请日:
2015.08.27
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
黎昌莉
摘要:
本发明属于药物制剂领域,涉及一种地奈德涂膜剂及其制备方法。本发明的地奈德涂膜剂由活性成分地奈德和非活性成分两部分组成,所述非活性成分包括成膜材料、增稠剂、保湿剂、透皮吸收促进剂、防腐剂、pH调节剂和水,涂搽患处后能形成薄膜,使药物缓慢释放,活性成分不易流失,疗效持久不用频繁给药,可以更好的发挥药物作用;同时其物理稳定性、化学性质稳定均比较稳定,符合现有相关指导原则要求,相比粘度较大的乳膏透气性和吸水性更优,使用舒适度更佳。另外,在处方中还引入了遮光剂,降低了地奈德涂膜剂的光敏性。同时,其制备方法操作简单,容易控制,适合大规模的工业化生产。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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