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イオン交換膜電解槽
- 专利权人:
- 株式会社大阪ソーダ
- 发明人:
- 長瀬 学,羽多野 聡
- 申请号：
- JP20150220038
- 公开号：
- JP2017088952(A)
- 申请日:
- 2015.11.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】二層構造の陽極として、従来の一層構造の陽極より低電圧で効率良く電解操作を行うことができるイオン交換膜電解槽を提供する。【解決手段】開口を有する導電性基体とその導電性基体上に設けられる触媒層とを有する陽極２０と、陰極３０と、それらの間に配置されるイオン交換膜Ｉと、を備えるイオン交換膜電解槽において、陽極２０は、陽極室の側に配置される第一陽極２１と、その第一陽極２１に導通した状態で積層された一層以上の第二陽極２２とを有し、前記第二陽極２２は、導電性基体の開口率が４０〜５５％であり、前記第一陽極２１の導電性基体の開口率が、前記第二陽極２２の導電性基体の開口率未満であることを特徴とする。【選択図】 図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
