您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

NAIL POLISH REMOVER COMPOSITION AND ITS USE
专利权人:
发明人:
申请号:
EP12760299.3
公开号:
EP2688546B1
申请日:
2012.03.21
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention relates to a water based nail polish remover composition comprising an anionic surfactant, a water soluble solvent, and water wherein the anionic surfactant is selected from the group consisting of secondary C6-C22-alkane sulfonate trialcohol amine salts and mixtures thereof. The invention also relates to the use of the composition for removing nail polish.La présente invention concerne une composition de dissolvant pour vernis à ongles à base aqueuse, comprenant un agent tensio-actif anionique, un solvant soluble dans leau, et de leau. Dans cette composition, lagent tensio-actif anionique est choisi dans le groupe consistant en les sels dalcane en C6-C22 sulfonate trialcool amines secondaires et leurs mélanges. Linvention concerne également lutilisation de la composition comme dissolvant pour vernis à ongles.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充