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中空药物填充支架以及形成中空药物填充支架的方法
专利权人:
美敦力瓦斯科尔勒公司
发明人:
R·比恩韦奴,J·E·米切尔,D·汤普森
申请号:
CN201380019570.9
公开号:
CN104220030B
申请日:
2013.02.12
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
由线材(302)形成一种支架,该线材具有外构件(322)、衬在外构件内表面的至少一部分的射线不透构件(324)、以及由外构件内表面或射线不透构件内表面限定的内腔(303)。药物活性物质(312)沉积在内腔内以通过穿过外构件通到内腔而设置的至少一个开口(304)洗脱。射线不透构件可沿线材的长度基本上连续或仅沿线材的诸如冠部的各部分设置。在制造支架的方法中,包括外构件、射线不透中间构件和芯构件的复合线材成形为支架型式并被处理而去除芯构件和射线不透中间构件的各可选部分而不损坏外构件。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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