衬垫结构体
- 专利权人:
- 夏普株式会社
- 发明人:
- 小柳智裕
- 申请号：
- CN201811595445.3
- 公开号：
- CN110179282A
- 申请日:
- 2018.25.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种使正离子与负离子产生的衬垫结构体。衬垫结构体(100)包括衬垫材(1)、盖部件(2)、及供给部(3)。盖部件(2)收容衬垫材(1)。供给部(3)将包含活性种的风向所述盖部件(2)的内部供给。由于存在有将包含活性种的风向盖部件(2)的内部供给的供给部(3),因此可供给正离子与负离子。因此,可对衬垫结构体(100)进行除臭。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
