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PLGA-S1P纳米材料及PLGA-S1P纳米涂层支架的制备方法
- 专利权人:
- 中国医科大学附属第一医院
- 发明人:
- 戚勋,钟红珊,徐克,苑永辉
- 申请号：
- CN201610032781.1
- 公开号：
- CN105709279B
- 申请日:
- 2016.19.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于提供一种PLGA‑S1P纳米材料及PLGA‑S1P纳米涂层支架的制备方法,其特征在于:采用超声分散的方法将S1P采取溶剂乳化法进行PLGA包被,其配比为S1P:PLGA=1:10~200(w/w),然后采取乳化剂扩散至水的方法去除有机溶剂,最后采用冻干浓缩法制成冻干粉。将PLGA‑S1P纳米粒冻干粉加入溶剂中,超声溶解后作为载药涂层液;将不锈钢支架清洗干净,采用高压电仿方法/超声波喷涂技术将载药涂层液反复喷涂于支架表面,涂层厚度控制在5~20μm,采用去离子水/有机溶剂挥发方法清洗,灭菌后即得PLGA‑S1P纳米涂层支架。采用PLGA‑S1P纳米粒作为金属裸支架的表面涂层材料,能够起到抑制支架置入术后再狭窄的目的,本发明为预防动脉狭窄/闭塞性疾病的介入治疗提供新的方法。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
