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一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法
专利权人:
中国科学院化学研究所
发明人:
舒春英,甄明明,王春儒,郑俊鹏
申请号:
CN201110221384.6
公开号:
CN102319443B
申请日:
2011.08.03
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明公开了一种适用于低场磁共振成像的高效MRI大分子造影剂及其制备方法与应用。所述MRI大分子造影剂可按照包括下述步骤的方法制备:a)将富勒烯羧酸衍生物溶于MES缓冲液中,加入EDC和NHS,室温下反应,得到富勒烯羧酸活性酯溶液;b)将Gd-DTPA-HSA加入到所述富勒烯羧酸活性酯溶液中搅拌反应,即得到所述的MRI造影剂。该Gd-DTPA-HSA-fullerene大分子造影剂在低场(0.5T)条件下弛豫效率显著提高,可在减少造影剂的使用剂量条件下得到明显的组织对比度;更为重要的是将其作为一种MRI分子探针,可以用于探索纳米材料(如功能化富勒烯衍生物)的体内分布代谢行为。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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