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インプラント用材料、その製造方法及び骨細胞との親和性向上方法
专利权人:
HIROSHIMA UNIVERSITY
发明人:
MAKIHIRA, Seichou,牧平清超,NIKAWA, Hiroki,二川浩樹,MINE, Yuichi,峯裕一,OKAMOTO, Keishi,岡本圭司,ABE, Yoshinori,阿部義紀,NAKATANI, Tatsuyuki,中谷達行,NITTA, Yuki,新田祐樹
申请号:
JPJP2010/006247
公开号:
WO2012/053035A1
申请日:
2010.10.21
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
In the present invention an implant material comprises a substrate (10) and a carbonaceous thin film (20) formed on the surface of the substrate (10). The carbonaceous thin film (20) has at least one of either functional groups containing oxygen or functional groups containing nitrogen. The percentage of functional groups containing oxygen is 4% or less, and the abundance ratio of functional groups containing nitrogen to functional groups containing oxygen is no more than 10.Linvention concerne un matériau dimplant comprenant un substrat (10) et une couche mince carbonée (20) formée sur la surface du substrat (10). La couche mince carbonée (20) contient au moins des groupes fonctionnels contenant de loxygène ou des groupes fonctionnels contenant de lazote. Le pourcentage de groupes fonctionnels contenant de loxygène est de 4% ou inférieur et le rapport de teneurs groupes fonctionnels contenant de lazote-groupes fonctionnels contenant de loxygène nest pas supérieur à 10.インプラント用材料は、基材10と、基材10の表面に形成された炭素質薄膜20とを備えている。炭素質薄膜20は、酸素を含む官能基及び窒素を含む官能基の少なくとも一方を有する。酸素を含む官能基の存在比は4%以下であり、窒素を含む官能基の存在比/酸素を含む官能基の存在比は10以下である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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