仙客来植株愈伤组织和芽的培养基及培养方法
- 专利权人:
- 湖北大学
- 发明人:
- 何玉池,周雪,孙文超,王真梅,卢翔宇,王桂友,宋兆建,蔡得田
- 申请号：
- CN201510809317.4
- 公开号：
- CN105340745A
- 申请日:
- 2015.11.20
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 胡清堂
- 摘要：
- 本发明提供了一种诱导仙客来叶片形成愈伤组织和芽的培养基及培养方法，通过“二步法”高效诱导仙客来愈伤组织和芽的形成，有效抑制外植体褐化。首先，外植体叶片采取前，将仙客来植株遮光处理24～26小时，随后离体低温(20℃～22℃)黑暗培养，有效解决了褐化问题；其次，通过低温黑暗培养，诱导愈伤组织，30～40天后提高培养温度至25℃～28℃，光照培养诱导成芽；最后，芽形成15～20天后诱导生根。该技术体系能有效抑制褐化，繁殖系数高，并能保存F1代的原有性状和杂种优势，为仙客来种苗的工厂化生产提供关键技术支撑。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
