一种对光稳定的地奈德制剂
- 专利权人:
- 重庆华邦制药有限公司
- 发明人:
- 陈李平,管璐晗,蒋海龙,传娜,赵静
- 申请号：
- CN201510534431.0
- 公开号：
- CN106474047A
- 申请日:
- 2015.08.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明属于药物制剂领域，涉及一种地奈德制剂，具体来说，涉及一种对光更加稳定的地奈德制剂。所述的对光更加稳定的地奈德制剂是使用苯乙醇和/或苯甲醇和/或2-苯氧基乙醇和/或山梨酸作为地奈德制剂的防腐剂来代替防腐剂对羟基苯甲酸甲酯和对羟基苯甲酸丙酯。本发明的地奈德制剂产品中各组分对有关物质检测系统不存在任何干扰，有关物质符合化学药物有关物质指导原则的控制限度，并且制剂的光敏性得到了明显的改善，在光照影响因素的对比考察中，本发明的地奈德制剂中有关物质降解幅度和含量下降幅度均明显降低，产品稳定性得到了明显提高。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
