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一种曝光剂量调节方法和系统
专利权人:
上海联影医疗科技有限公司
发明人:
崔凯,徐亮,袁洲,杨乐
申请号:
CN202010439423.9
公开号:
CN111568451A
申请日:
2020.05.22
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本申请提供了一种曝光剂量调节方法和系统。所述方法包括:根据第一曝光剂量,获取第一图像;将所述第一图像输入至检测模型,确定所述第一图像中的感兴趣区域,所述检测模型为机器学习模型;确定第一图像中的感兴趣区域的灰度值;根据所述灰度值和预设灰度目标值,调节第一曝光剂量,得到用于生成第二图像的第二曝光剂量。本申请可以快速获得曝光剂量合适的高质量图像,同时有效降低患者接收不必要的辐射剂量。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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