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粒子射线治疗装置及剂量校正系数的设定方法
- 专利权人:
- 三菱电机株式会社
- 发明人:
- 原田久,池田昌广,高桥理,伊奈信彦,蒲越虎,岩田高明
- 申请号：
- CN201380077190.0
- 公开号：
- CN105263577A
- 申请日:
- 2013.06.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明包括：按每一层对粒子射线进行成形并进行照射的照射装置(10)；实时测量剂量的剂量监视器(12)；基于剂量监视器(12)测量到的测量值(Ci)和按每一层进行设定的剂量校正系数来对每一层的照射剂量进行评价的剂量评价部(70)；基于剂量评价部(70)的评价结果来控制每一层的照射的照射控制部(60)；以及使用通过对设置有校正剂量计(82)的模拟体模(81)照射粒子射线而获得的实际测量剂量校正系数(αi)、来生成剂量校正系数的插补值或推测值(βi)的插补值生成部(74)，插补值生成部(74)对于成为插补值或推测值(βi)的对象的每一层，基于该层的照射条件，进行每一个实际测量剂量校正系数(αi)的加权。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
