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치아 임플란트 요소
专利权人:
发明人:
그롤, 베르너,볼프, 디트리히,스파넬, 안드레,랑게, 토마스,베르그네르, 노르베르트
申请号:
KR1020067008745
公开号:
KR1011542210000B1
申请日:
2004.10.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
Tooth implant according to the invention comprises a fine roughened surface consisting of the processed at least one top surface (7,28) and the top 17 of the average roughness of about 0.7 to 1.1 micron (R A) by etching. It said top surface is a porous surface coating layer having a pore size of 10 microns or less than about 0.5 microns in thickness of the titanium nitride. The micro-roughened surface to promote the suture and the tissue growth in the upper and enhances the sealing effect between the implant and the epithelial cells.Implant본 발명에 따른 치아 임플란트는 에칭에 의해 약 0.7-1.1미크론의 평균 조도(RA)의 미세조면화처리된 표면으로 구성된 적어도 하나의 상부면(7,28)과 상부(17)를 포함한다. 상기 상부면은 질화티탄의 0.5미크론 두께의 코팅층 또는 약 10미크론 미만의 기공 크기를 갖는 다공질 표면으로 된다. 상기 미세조면화 표면은 상부에서의 봉합 및 조직 성장을 촉진하고, 임플란트와 상피세포간에 밀봉효과를 향상시켜준다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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