An EUV light source is disclosed herein which may comprise a droplet generator producing a stream of target material droplets, a first optical gain medium amplifying light on a first beam path without a seed laser providing a seed laser output to the first beam path, a second optical gain medium amplifying light on a second beam path without a seed laser providing a seed laser output to the second beam path, and a beam combiner combining light from the first beam path and the second beam path for interaction with a target material droplet to produce EUV light emitting plasma.Linvention concerne une source de lumière EUV pouvant comprendre un générateur de gouttelettes produisant un flux de gouttelettes de matériau cible, un premier milieu à gain optique amplifiant la lumière sur le premier chemin optique sans nécessiter de laser densemencement fournissant une sortie de laser densemencement sur le premier chemin de faisceau, un deuxième milieu à gain optique amplifiant la lumière sur le deuxième chemin optique sans nécessiter de laser densemencement fournissant une sortie de laser densemencement sur le deuxième chemin de faisceau, et un combineur de faisceau combinant la lumière provenant du premier chemin de faisceau et du deuxième chemin de faisceau afin quelle interagisse avec une gouttelette de matériau cible de manière à produire un plasma émettant de la lumière EUV.
