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MONOMÈRE POLYMÉRISABLE CONTENANT DU SOUFRE ET SON UTILISATION
专利权人:
サンメディカル株式会社;MITSUI CHEMICALS, INC.;三井化学株式会社;SUN MEDICAL CO., LTD.
发明人:
MATSUMURA Hideo,松村英雄,MIYAMORI Sayaka,宮森沙耶香,YAMAMOTO Takashi,山本隆司,YOSHINAGA Kazuhiko,吉永一彦,MIO Shigeru,三尾茂,KIYONO Shinji,清野真二,SUZUKI Hina,鈴木比捺
申请号:
JPJP2019/031707
公开号:
WO2020/032268A1
申请日:
2019.08.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
This compound (A) is represented by formula (1). [In formula (1), R1 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, R2 represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, Z represents a divalent or trivalent organic group, and lines that consist of a solid line and a broken line and that bind to Z represent a single bond or a double bond.]Ce composé (A) est représenté par la formule (1). [Dans la formule (1), R1 représente un atome d'hydrogène ou un atome de métal alcalin, R2 représente un atome d'hydrogène ou un atome de métal alcalin, R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, Z représente un groupe organique divalent ou trivalent, et les lignes qui sont constituées d'une ligne solide et d'une ligne brisée et qui sont reliées à Z représentent une liaison simple ou une double liaison.]式(1)で表される化合物(A)。[式(1)中、R1は、水素原子またはアルカリ金属原子であり、R2は、水素原子またはアルカリ金属原子であり、R3は、水素原子またはメチル基であり、Zは、2価または3価の有機基であり、Zに結合する実線および破線からなる線は、単結合または二重結合を表す。]
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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