含取代的二环庚二酮衍生物的除草剂
- 专利权人:
- 日本曹达株式会社
- 发明人:
- 植田昭嘉,菅繁已,阿达弘之,相原利男,富田和之,山岸秀树,保坂秀夫
- 申请号：
- CN90103422.3
- 公开号：
- CN1025186C
- 申请日:
- 1990.07.03
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 1994
- 代理人:
- 吴惠中
- 摘要：
- 本发明涉及一些具高效除草活性，由通式(I)所代表的，取代的二环庚二酮衍生物，(式中，R1为低级烷基，可被取代的苯基，可被取代的芳烷基，或可被取代的杂环基)；R2为相同或不同的，卤素、烷氧基、烷基硫代，烷基磺酰基，烷基，烷氧基烷基，或烷氧基羰基，n为0到4；R3和R4为相同或不同的，卤素或低级烷基)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
