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用于准分子激光原位角膜磨镶术的设备
专利权人:
威孚莱有限公司
发明人:
克里斯蒂安·维尔纳,克劳斯·沃格勒,克里斯托夫·德尼茨基
申请号:
CN200980158320.7
公开号:
CN102361607A
申请日:
2009.03.23
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于LASIK的装置,具有:第一激光照射源(12),用于产生具有在角膜组织中引起爆裂的能量密度的第一激光照射脉冲(14);第一工具(22、44、K),用于引导和成形所述第一激光照射脉冲进入所述角膜组织;第二激光照射源(46),用于产生具有引起角膜组织烧蚀的能量密度的第二激光照射脉冲(46);第二工具(40、42、44、24),用于相对所述角膜引导和成形所述第二激光照射脉冲(48);控制器(50),具有用于控制所述第一工具和所述第一激光照射脉冲用以在所述角膜(60)中产生切口(72)的第一治疗程序;并具有第二治疗程序(56b),用于控制所述第二工具和所述第二激光照射脉冲用以重塑所述角膜并修正其成像特性,其中所述第一治疗程序产生引起角膜的成像特性中的彩虹效应的规则角膜表面结构;和第三治疗程序(56c),控制所述第二工具和所述第二激光照射脉冲用以去除上述规则结构(68)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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