A method for preparing a porous tantalum medical implant material comprises: directly performing selective laser sintering on a raw material, namely, pure tantalum powder with the particle size being less than or equal to 10 μm, so as to form a human bone metal biomimetic material, the thickness of powder paved on each layer during selective laser sintering being 60 to 80 μm and sintering and cooling the formed human bone metal biomimetic material to obtain the porous tantalum medical implant material. Forming blank prepared by selective laser sintering is sintered and cooled so as to obtain the porous tantalum medical implant material of which pores are completely connected in a three-dimensional way and the structure is consistent with a microstructure of a bone tissue of a human body the porous medical implant material is high in biocompatibility and biosecurity and the method of the present invention also has the following advantages: process equipment is simple, operation cost is low, pollution is avoided in the whole preparation process, the toxic and side effects on the human body can be avoided, the biosecurity of the implant material can be guaranteed, the forming speed is high, and the porous tantalum medical implant material can be industrially produced and applied.Un procédé de préparation dun matériau dimplant médical en tantale poreux comprend les étapes consistant à : exécuter directement un frittage laser sélectif sur une matière première, à savoir une poudre de tantale pur dont la taille des particules est inférieure ou égale à 10 μm, de manière à former un matériau métallique biomimétique pour os humain, lépaisseur de la poudre déposée sur chaque couche pendant le frittage laser sélectif étant comprise entre 60 et 80 μm puis fritter et refroidir le matériau métallique biomimétique pour os humain formé de manière à obtenir le matériau dimplant médical en tantale poreux. Une ébauche de formation préparée par frittage laser sélectif est frittée et ref
