In the present invention, the energy of a particle beam emitted from an accelerator (1) is set for each slice group (F) which includes at least two adjacent slices (S). When setting the attenuation for each slice (S) in the slice groups (F), for each slice group (F), with respect to the slice (S) at the deepest position in the slice group (F), the energy emitted from the accelerator (1) is set to a value that is higher than the energy corresponding to the slice (S) at the deepest position so that a transmissive plate has a prescribed thickness. The thickness of the transmissive plate set for each slice group (F) is configured so that the thickness set for a deep position slice group (F) is greater than the thickness set for a shallow position slice group (F), and the thickness set for the deepest position slice group (F) is thicker than the thickness set for the shallowest position slice group (F).Dans la présente invention, l'énergie d'un faisceau de particules émis à partir d'un accélérateur (1) est fixée pour chaque groupe de tranches (F) qui comprend au moins deux tranches adjacentes (S). Lors du réglage de l'atténuation pour chaque tranche (S) dans les groupes de tranches (F), pour chaque groupe de tranches (F), par rapport à la tranche (S) à la position la plus profonde dans le groupe de tranches (F), l'énergie émise à partir de l'accélérateur (1) est fixée à une valeur qui est supérieure à l'énergie correspondant à la tranche (S) à la position la plus profonde de façon à ce qu'une plaque transmissive ait une épaisseur prescrite. L'épaisseur de la plaque transmissive fixée pour chaque groupe de tranches (F) est conçue de façon à ce que l'épaisseur fixée pour un groupe de tranches (F) en position profonde soit supérieure à l'épaisseur fixée pour un groupe de tranches (F) en position superficielle, et l'épaisseur fixée pour le groupe de tranches (F) aux positions les plus profondes est supérieure à l'épaisseur fixée pour le groupe de tranches (F) aux positions l
