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The ethylene gas supply section which
专利权人:
門馬;直志
发明人:
門馬 直志
申请号:
JP2009278167
公开号:
JP5138664B2
申请日:
2009.12.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bean sprout growing system by which the concentration of ethylene gas is managed in a high accuracy at the concentration of about 0.1-5 ppm even when using ethylene derived from ethanol (fermented ethanol) obtained by fermentation, so as to control the growth of bean sprouts.SOLUTION: The bean sprout growing system includes: an ethylene gas supplying part where the ethylene derived from ethanol obtained by fermentation is stored in a pressurized condition a bean sprout growing chamber where the bean sprouts are grown and a control part where the concentration of the ethylene in the bean sprout growing chamber is measured using a gas chromatograph, and the ethylene stored in the ethylene gas supply part is supplied to the bean sprout growing chamber from the ethylene gas supplying part in accordance with a preset concentration through utilizing gas pressure difference between the gas pressure in the ethylene gas supplying part and that in the bean sprout growing chamber so as to control the ethylene concentration in the bean sprout growing chamber in a range of the preset concentration. The bean sprout grown by the system is provided.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】発酵により得られたエタノール(発酵エタノール)由来のエチレンを用いる場合でも、0.1~5ppm程度の濃度で精度よくエチレンガスの濃度管理を行い、もやしの生育を制御する技術を提供することを目的とする。【解決手段】発酵により得られたエタノールを由来とするエチレンを加圧状態で貯蔵するエチレンガス供給部と、もやしを育成するもやし育成室と、前記もやし育成室内のエチレン濃度をガスクロマトグラフを用いて測定し、設定濃度に応じて、前記エチレンガス供給部と前記もやし育成室とのガス圧差を利用して、前記エチレンガス供給部で貯蔵されているエチレンを前記エチレンガス供給部から前記もやし育成室へ供給し、もやし育成室内のエチレン濃度を設定濃度範囲に制御する制御部と、を備えたもやし育成システム及び該システムにより育成されたもやしにより解決する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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