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等离子体源及等离子体治疗装置
专利权人:
ATI株式会社
发明人:
安头白,金东逸,崔银河,李相学,崔珍成
申请号:
CN201811566878.6
公开号:
CN110833657A
申请日:
2018.19.12
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明提供一种等离子体源及等离子体治疗装置,尤其提供一种适用于治疗创伤或者烧伤的大面积等离子体源,并提供能够在这种大面积等离子体源产生均匀的等离子体放电的手段。据此,本发明提供一种大面积等离子体源,其特征在于,包括:大面积电极板,在基板上形成有具有多个放电点的电极,并且形成有覆盖所述电极的电介质;输出板,在所述电极板的一面与电极板隔开地布置,并具有在输出板的对向的两个端部分别形成的预定高度的气障,并且形成有多个孔;以及狭缝喷头模块,在所述电极板和输出板之间形成有供应气体的喷头,并组装于没有所述气障的一侧的电极板以及输出板的端部,使得气体限制在由所述电极板和输出板之间的间隙形成的空间中。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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