立式负压水磨大米抛光机
- 专利权人:
- 李含先
- 发明人:
- 李含先
- 申请号：
- CN01257486.4
- 公开号：
- CN2510157Y
- 申请日:
- 2001.12.10
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2002
- 代理人:
- 邹常友
- 摘要：
- 本实用新型涉及一种立式负压水磨大米抛光机,是一种对大米进行处理精加工设备。它包括电机、机架、皮带传动装置、空心转轴、进料装置、抛光装置、轴承装置和抽风机。本机采用立式结构,单辊筒、负压着水和多边形辊筒与多边形筛框组合体构成的抛光室,能充分地将大米抛光,碎米率低,采用一个抽风机,达到了吸水和去除糠粉两个目的,本实用新型设计新颖,结构简单,体积小,着水均匀,抛光时接触面积大,抛光充分,效率高,抛光效果好,它是一种对大米进行精加工的理想设备。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
