PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure that prevents water droplet from remaining due to condensation of water vapor in an implant support hole of an implant support, after sterilization treatment using the water vapor of high temperature and high pressure in an autoclave prior to ultraviolet treatment of the implant, in an implant stand used by an ultraviolet treatment device for an implant.SOLUTION: An implant stand comprises a bottom plate and an implant support provided on the bottom plate. Implant support holes are provided in the implant support while penetrating vertically, and the lower end openings of the implant support holes are provided with a gap between the bottom plate and themselves.SELECTED DRAWING: Figure 2COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】インプラント用紫外線処理装置に用いられるインプラント・スタンドにおいて、インプラントの紫外線処理に先立つ、オートクレーブでの高温高圧の水蒸気による殺菌処理後に、インプラント支持体のインプラント支持孔内に水蒸気の凝縮によって水滴が残留することを防止する構造を提供することである。【解決手段】インプラント・スタンドは、底板と、該底板の上に設けられたインプラント支持体とからなり、前記インプラント支持体にはインプラント支持孔が上下方向に貫通して設けられ、該インプラント支持孔の下端開口部が、前記底板との間に間隙を有することを特徴とする。【選択図】 図2
