Skin trouble inhibitor and composition for suppressing skin trouble

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专利权人:

昭和電工株式会社

发明人:

中上 夕子,三品 菜津乃,加藤 詠子

申请号：

JP2019523904

公开号：

JPWO2018225718A1

申请日:

2018.06.05

申请国别(地区):

JP

年份:

2020

代理人:

摘要：

An agent for suppressing skin trouble caused by fine particulate matter, which contains an inositol derivative in which sugar is bound to inositol as an active ingredient. A composition for suppressing skin troubles caused by fine particulate matter, which contains the skin trouble suppressor and a pharmaceutically acceptable carrier.イノシトールに糖が結合したイノシトール誘導体を有効成分として含有する、微小粒子状物質に起因する皮膚トラブル抑制剤。また、前記皮膚トラブル抑制剤及び薬学的に許容される担体を含有する、微小粒子状物質に起因する皮膚トラブル抑制用組成物。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/