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APPAREIL DE TRAITEMENT DES PLAIES EN PRESSION NÉGATIVE
专利权人:
Smith & Nephew PLC
发明人:
申请号:
EP16825422.5
公开号:
EP3397220A1
申请日:
2016.12.22
申请国别(地区):
EP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Disclosed embodiments relate to apparatuses and methods for wound treatment. In certain embodiments, a negative pressure wound therapy apparatus can include a spacer layer with an upper portion and a lower portion. The spacer layer can be configured to be wrapped around at least one edge of the absorbent layer with the upper portion of the spacer layer being above the absorbent layer and the lower portion of the spacer layer being below the absorbent layer. In some embodiments, a negative pressure wound therapy apparatus can include a first and second spacer layer and an absorbent layer. The first spacer layer can be positioned below the absorbent layer and the first spacer layer can have a perimeter larger than a perimeter of the absorbent layer. The second spacer layer can be positioned above the absorbent layer. The second spacer layer can have a perimeter larger than the perimeter of the absorbent layer.Selon certains modes de réalisation, l'invention concerne des appareils et des procédés de traitement des plaies. Dans certains modes de réalisation, un appareil de traitement des plaies en pression négative peut comprendre une couche d'espacement avec une portion supérieure et une portion inférieure. La couche d'espacement peut être conçue pour être enroulée autour d'au moins un bord de la couche d'absorbant, la portion supérieure de la couche d'espacement étant au-dessus de la couche d'absorbant et la portion inférieure de la couche d'espacement étant au-dessous de la couche d'absorbant. Dans certains modes de réalisation, un appareil de traitement des plaies en pression négative peut comprendre une première et une seconde couche d'espacement et une couche d'absorbant. La première couche d'espacement peut être positionnée sous la couche d'absorbant et la première couche d'espacement peut avoir un périmètre plus grand qu'un périmètre de la couche d'absorbant. La seconde couche d'espacement peut être positionnée au-dessus de la couche d'absorbant. La seconde couc
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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