マイクロ電子デバイス及びその前駆体を製作するために酸性化学物質を使用した場合の改善されたチャンバの洗浄
- 专利权人:
- ティーイーエル エフエスアイ，インコーポレイティド
- 发明人:
- バーグ，エリック アール,シエファリング，ケヴィン エル
- 申请号：
- JP20160530240
- 公开号：
- JP2017504182(A)
- 申请日:
- 2014.11.12
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、酸性化学物質を用いて処理されるウェーハの表面上の汚染を減らす処理戦略を提供する。これらの戦略は、敏感なマイクロ電子の特徴又はその前駆体を含むものを含む多種多様のウェーハでの使用に適している。これらの戦略は、汚染の原因になり得る残留酸及び酸副産物を、１つ又は複数のワークピースの表側からも、他の処理しているチャンバの表面からも迅速且つ効果的に除去する中和及びすすぎの戦略の組み合わせを含む。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
