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吸附载体填充柱
- 专利权人:
- 东丽株式会社
- 发明人:
- 富田尚利,岛田薰,上野良之
- 申请号：
- CN201480031050.4
- 公开号：
- CN105246524A
- 申请日:
- 2014.05.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于提供能够减少旁路、提高吸附载体的性能的吸附载体填充柱。本发明提供吸附载体填充柱，其具备中心管、吸附载体、板A和板B，其中，在上述吸附载体与上述板A之间插入有插入材料C，在上述吸附载体与上述板B之间插入有插入材料D，上述插入材料C的变形率（C1）与上述吸附载体的变形率（E0）之比为1≤C1/E0≤10，并且上述插入材料D的变形率（D1）与上述吸附载体的变形率（E0）之比为1≤D1/E0≤10，上述插入材料C的厚度（TC）与上述吸附载体和上述板A的间隙距离（LA）之比为1.1≤TC/LA≤4，并且上述插入材料D的厚度（TD）与上述吸附载体和上述板B的间隙距离（LB）之比为1.1≤TD/LB≤4。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
